[Trennmuster] Unterstützung für Primär- und Sekundärtrennstellen

[Werner LEMBERG]

> Daher habe ich jetzt Anpassungen am Makefile und dem Skript
> make-full-pattern.sh vorgenommen. Mit
>
>    make primary pattern-refo
>
> etc. und
>
>    make secondary pattern-refo
>
> etc. lassen sich Trennmuster erzeugen, die nur Primär- bzw. nur
> Primär- und Sekundärtrennstellen zulassen.

Sehr schön, danke!

> Die Voraussetzung für diese Aufrufe ist allerdings ein
> selbstkompiliertes patgen, da wesentlich längere Muster auftreten
> können als bei den gewöhnlichen Mustern, was mit den
> voreingestellten Parametern von patgen nicht möglich ist.  Daher
> habe ich Werners Anleitung zur patgen-Compilierung um einen
> Abschnitt ergänzt, in dem die notwendigen Codeänderungen beschrieben
> werden:
> https://wiki.dante.de/doku.php?id=trennmuster:patgen_selbst_kompilieren

Nochmals danke.  Da heutzutage Speicherprobleme für Programme wie
patgen überhaupt nicht mehr relevant sind, schlage ich vor, Du
schreibst an die TeXLive-Liste, damit Karl Berry die Werte
entsprechend anpaßt.

> Um zu entscheiden, ob eine Trennstelle zulässig ist, muss bei langen
> Komposita enorm viel Kontext berücksichtigt werden.  Das führt auch
> dazu, dass mehr Muster nötig sind (etwa Faktor 3 bei
> Primärtrennstellen gegenüber gewöhnlichen Trennstellen) und ohne
> Frage auch die Verallgemeinerbarkeit auf nicht in der Liste erfasste
> Wörter leidet.

Ja, hier wird patgen extrem ausgereizt.

> Im Moment tauchen mit den o.g. Makefile-Aufrufen noch Fehlermeldungen
> auf, da das Trennzeichen << nicht von extract-tex.pl unterstützt
> wird.

Sorry.  Ich hab' daran vor einem Jahr angefangen zu arbeiten, bin aber
dann steckengeblieben und hab vergessen weiterzuarbeiten.  Hoffentlich
schaffe ich es demnächst, das zu korrigieren.


    Werner